VeTek Semiconductor ist auf die Herstellung hochreiner Siliziumkarbid-Beschichtungsprodukte spezialisiert. Diese Beschichtungen sind für die Anwendung auf gereinigtem Graphit, Keramik und hochschmelzenden Metallkomponenten konzipiert.
Unsere hochreinen Beschichtungen sind vor allem für den Einsatz in der Halbleiter- und Elektronikindustrie bestimmt. Sie dienen als Schutzschicht für Waferträger, Suszeptoren und Heizelemente und schützen sie vor korrosiven und reaktiven Umgebungen, die bei Prozessen wie MOCVD und EPI auftreten. Diese Prozesse sind integraler Bestandteil der Waferverarbeitung und Geräteherstellung. Darüber hinaus eignen sich unsere Beschichtungen gut für Anwendungen in Vakuumöfen und zur Probenerwärmung, wo Hochvakuum, reaktive und Sauerstoffumgebungen herrschen.
Bei VeTek Semiconductor bieten wir mit unseren fortschrittlichen Werkstattkapazitäten eine umfassende Lösung. Dadurch ist es uns möglich, die Basiskomponenten aus Graphit, Keramik oder Refraktärmetallen herzustellen und die SiC- oder TaC-Keramikbeschichtungen im eigenen Haus aufzubringen. Wir bieten auch Beschichtungsdienste für vom Kunden bereitgestellte Teile an und gewährleisten so die Flexibilität, unterschiedlichen Anforderungen gerecht zu werden.
Unsere Siliziumkarbid-Beschichtungsprodukte werden häufig in der Si-Epitaxie, SiC-Epitaxie, MOCVD-System, RTP/RTA-Prozess, Ätzprozess, ICP/PSS-Ätzprozess und Prozess verschiedener LED-Typen, einschließlich blauer und grüner LED, UV-LED und tiefem UV, eingesetzt LED usw., die an Geräte von LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI usw. angepasst sind.
Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung | |
Eigentum | Typischer Wert |
Kristallstruktur | Polykristalline FCC-β-Phase, hauptsächlich (111)-orientiert |
Dichte | 3,21 g/cm³ |
Härte | 2500 Vickers-Härte (500 g Belastung) |
Körnung | 2~10μm |
Chemische Reinheit | 99,99995 % |
Wärmekapazität | 640 J·kg-1·K-1 |
Sublimationstemperatur | 2700℃ |
Biegefestigkeit | 415 MPa RT 4-Punkt |
Elastizitätsmodul | 430 Gpa 4pt Biegung, 1300℃ |
Wärmeleitfähigkeit | 300W·m-1·K-1 |
Wärmeausdehnung (CTE) | 4,5×10-6K-1 |
VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller, Innovator und Marktführer für CVD-SiC-Beschichtung und TAC-Beschichtung in China. Seit vielen Jahren konzentrieren wir uns auf verschiedene CVD-SiC-Beschichtungsprodukte wie CVD-SiC-beschichtete Röcke, CVD-SiC-Beschichtungsringe, CVD-SiC-Beschichtungsträger usw. VeTek Semiconductor unterstützt maßgeschneiderte Produktdienstleistungen und zufriedenstellende Produktpreise und freut sich auf Ihre weitere Zusammenarbeit Beratung.
WeiterlesenAnfrage absendenAls führender chinesischer Halbleiterprodukthersteller und Marktführer konzentriert sich VeTek Semiconductor seit vielen Jahren auf verschiedene Arten von Suszeptorprodukten wie UV-LED-Epi-Suszeptor, Deep-UV-LED-Epitaxial-Suszeptor, SiC-Beschichtungs-Suszeptor, MOCVD-Suszeptor usw. VeTek Semiconductor ist bestrebt, fortschrittliche Technologie- und Produktlösungen für die Halbleiterindustrie bereitzustellen, und wir freuen uns aufrichtig darauf, Ihr Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenDas CVD-SiC-Beschichtungsleitblech von Vetek Semiconductor wird hauptsächlich in der Si-Epitaxie verwendet. Es wird normalerweise mit Silikon-Verlängerungsrohren verwendet. Es kombiniert die einzigartige hohe Temperatur und Stabilität der CVD-SiC-Beschichtungsblende, was die gleichmäßige Verteilung des Luftstroms in der Halbleiterfertigung erheblich verbessert. Wir glauben, dass unsere Produkte Ihnen fortschrittliche Technologie und hochwertige Produktlösungen bieten können.
WeiterlesenAnfrage absendenDer CVD-SiC-Graphitzylinder von Vetek Semiconductor spielt eine zentrale Rolle in Halbleitergeräten und dient als Schutzschild in Reaktoren, um interne Komponenten bei hohen Temperatur- und Druckeinstellungen zu schützen. Es schützt effektiv vor Chemikalien und extremer Hitze und bewahrt so die Integrität der Ausrüstung. Mit außergewöhnlicher Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit gewährleistet es Langlebigkeit und Stabilität in anspruchsvollen Umgebungen. Die Verwendung dieser Abdeckungen verbessert die Leistung von Halbleitergeräten, verlängert die Lebensdauer und verringert den Wartungsaufwand und das Schadensrisiko. Fragen Sie uns gerne an.
WeiterlesenAnfrage absendenDie CVD-SiC-Beschichtungsdüsen von Vetek Semiconductor sind entscheidende Komponenten, die im LPE-SiC-Epitaxieprozess zur Abscheidung von Siliziumkarbidmaterialien während der Halbleiterherstellung verwendet werden. Diese Düsen bestehen typischerweise aus hochtemperaturbeständigem und chemisch stabilem Siliziumkarbidmaterial, um Stabilität in rauen Verarbeitungsumgebungen zu gewährleisten. Sie sind für eine gleichmäßige Abscheidung konzipiert und spielen eine Schlüsselrolle bei der Kontrolle der Qualität und Gleichmäßigkeit der in Halbleiteranwendungen gewachsenen Epitaxieschichten. Wir freuen uns auf eine langfristige Zusammenarbeit mit Ihnen.
WeiterlesenAnfrage absendenVetek Semiconductor bietet CVD-SiC-Beschichtungsschutz an, der für LPE-SiC-Epitaxie verwendet wird. Der Begriff „LPE“ bezieht sich normalerweise auf Niederdruckepitaxie (LPE) bei der chemischen Gasphasenabscheidung bei niedrigem Druck (LPCVD). In der Halbleiterfertigung ist LPE eine wichtige Prozesstechnologie zum Züchten einkristalliner Dünnfilme, die häufig zum Züchten von Silizium-Epitaxieschichten oder anderen Halbleiter-Epitaxieschichten verwendet wird. Bei weiteren Fragen können Sie sich gerne an uns wenden.
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