China Siliziumkarbidbeschichtung Hersteller, Lieferant, Fabrik

VeTek Semiconductor ist auf die Herstellung hochreiner Siliziumkarbid-Beschichtungsprodukte spezialisiert. Diese Beschichtungen sind für die Anwendung auf gereinigtem Graphit, Keramik und hochschmelzenden Metallkomponenten konzipiert.

Unsere hochreinen Beschichtungen sind vor allem für den Einsatz in der Halbleiter- und Elektronikindustrie bestimmt. Sie dienen als Schutzschicht für Waferträger, Suszeptoren und Heizelemente und schützen sie vor korrosiven und reaktiven Umgebungen, die bei Prozessen wie MOCVD und EPI auftreten. Diese Prozesse sind integraler Bestandteil der Waferverarbeitung und Geräteherstellung. Darüber hinaus eignen sich unsere Beschichtungen gut für Anwendungen in Vakuumöfen und zur Probenerwärmung, wo Hochvakuum, reaktive und Sauerstoffumgebungen herrschen.

Bei VeTek Semiconductor bieten wir mit unseren fortschrittlichen Werkstattkapazitäten eine umfassende Lösung. Dadurch ist es uns möglich, die Basiskomponenten aus Graphit, Keramik oder Refraktärmetallen herzustellen und die SiC- oder TaC-Keramikbeschichtungen im eigenen Haus aufzubringen. Wir bieten auch Beschichtungsdienste für vom Kunden bereitgestellte Teile an und gewährleisten so die Flexibilität, unterschiedlichen Anforderungen gerecht zu werden.

Unsere Siliziumkarbid-Beschichtungsprodukte werden häufig in der Si-Epitaxie, SiC-Epitaxie, MOCVD-System, RTP/RTA-Prozess, Ätzprozess, ICP/PSS-Ätzprozess und Prozess verschiedener LED-Typen, einschließlich blauer und grüner LED, UV-LED und tiefem UV, eingesetzt LED usw., die an Geräte von LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI usw. angepasst sind.

Reaktorteile, die wir herstellen können:

Die Siliziumkarbidbeschichtung bietet mehrere einzigartige Vorteile:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

VeTek Semiconductor Siliziumkarbid-Beschichtungsparameter:

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung
Eigentum	Typischer Wert
Kristallstruktur	Polykristalline FCC-β-Phase, hauptsächlich (111)-orientiert
Dichte	3,21 g/cm³
Härte	2500 Vickers-Härte (500 g Belastung)
Körnung	2~10μm
Chemische Reinheit	99,99995 %
Wärmekapazität	640 J·kg-1·K-1
Sublimationstemperatur	2700℃
Biegefestigkeit	415 MPa RT 4-Punkt
Elastizitätsmodul	430 Gpa 4pt Biegung, 1300℃
Wärmeleitfähigkeit	300W·m-1·K-1
Wärmeausdehnung (CTE)	4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

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CVD-SiC-Block für das SiC-Kristallwachstum

VeTek Semiconductor konzentriert sich auf die Forschung, Entwicklung und Industrialisierung von CVD-SiC-Massenquellen, CVD-SiC-Beschichtungen und CVD-TaC-Beschichtungen. Am Beispiel des CVD-SiC-Blocks für das SiC-Kristallwachstum ist die Produktverarbeitungstechnologie fortschrittlich, die Wachstumsrate ist schnell, die hohe Temperaturbeständigkeit und die Korrosionsbeständigkeit sind stark. Gerne können Sie sich erkundigen.

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Neue Technologie zur SiC-Kristallzüchtung

Das durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD) hergestellte hochreine Siliziumkarbid (SiC) von Vetek Semiconductor kann als Ausgangsmaterial für die Züchtung von Siliziumkarbidkristallen durch physikalischen Dampftransport (PVT) verwendet werden. Bei der SiC Crystal Growth New Technology wird das Ausgangsmaterial in einen Tiegel geladen und auf einen Impfkristall sublimiert. Verwenden Sie die ausrangierten CVD-SiC-Blöcke, um das Material als Quelle für die Züchtung von SiC-Kristallen zu recyceln. Willkommen bei einer Partnerschaft mit uns.

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CVD-SiC-Duschkopf

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller und Innovator von CVD-SiC-Duschköpfen in China. Wir sind seit vielen Jahren auf SiC-Material spezialisiert. CVD-SiC-Duschköpfe werden aufgrund ihrer hervorragenden thermochemischen Stabilität, hohen mechanischen Festigkeit und Beständigkeit als Material für den Fokussierring ausgewählt Plasmaerosion. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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SiC-Duschkopf

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller und Innovator von SiC-Duschköpfen in China. Wir sind seit vielen Jahren auf SiC-Material spezialisiert. SiC-Duschköpfe werden aufgrund seiner hervorragenden thermochemischen Stabilität, hohen mechanischen Festigkeit und Beständigkeit gegen Plasmaerosion als Fokusringmaterial ausgewählt .Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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SiC-Beschichtungsset Disc

VeTek Semiconductor, ein führender Hersteller von CVD-SiC-Beschichtungen, bietet SiC-Beschichtungssatzscheiben in Aixtron MOCVD-Reaktoren an. Diese SiC-Beschichtungssatzscheiben werden aus hochreinem Graphit hergestellt und verfügen über eine CVD-SiC-Beschichtung mit Verunreinigungen unter 5 ppm. Wir freuen uns über Anfragen zu diesem Produkt.

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SiC-Beschichtungssammelzentrum

VeTek Semiconductor, ein renommierter Hersteller von CVD-SiC-Beschichtungen, bietet Ihnen das hochmoderne SiC-Beschichtungskollektorzentrum im Aixtron G5 MOCVD-System. Diese SiC-Beschichtungs-Kollektorzentren wurden sorgfältig aus hochreinem Graphit entwickelt und verfügen über eine fortschrittliche CVD-SiC-Beschichtung, die hohe Temperaturstabilität, Korrosionsbeständigkeit und hohe Reinheit gewährleistet. Wir freuen uns auf die Zusammenarbeit mit Ihnen!

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Als professioneller Siliziumkarbidbeschichtung Hersteller und Lieferant in China verfügen wir über eine eigene Fabrik. Egal, ob Sie maßgeschneiderte Dienstleistungen benötigen, um den spezifischen Anforderungen Ihrer Region gerecht zu werden, oder fortschrittliche und langlebige Produkte aus China kaufen möchten, Sie können uns eine Nachricht hinterlassen.