VeTek Semiconductor ist auf die Herstellung hochreiner Siliziumkarbid-Beschichtungsprodukte spezialisiert. Diese Beschichtungen sind für die Anwendung auf gereinigtem Graphit, Keramik und hochschmelzenden Metallkomponenten konzipiert.
Unsere hochreinen Beschichtungen sind vor allem für den Einsatz in der Halbleiter- und Elektronikindustrie bestimmt. Sie dienen als Schutzschicht für Waferträger, Suszeptoren und Heizelemente und schützen sie vor korrosiven und reaktiven Umgebungen, die bei Prozessen wie MOCVD und EPI auftreten. Diese Prozesse sind integraler Bestandteil der Waferverarbeitung und Geräteherstellung. Darüber hinaus eignen sich unsere Beschichtungen gut für Anwendungen in Vakuumöfen und zur Probenerwärmung, wo Hochvakuum, reaktive und Sauerstoffumgebungen herrschen.
Bei VeTek Semiconductor bieten wir mit unseren fortschrittlichen Werkstattkapazitäten eine umfassende Lösung. Dadurch ist es uns möglich, die Basiskomponenten aus Graphit, Keramik oder Refraktärmetallen herzustellen und die SiC- oder TaC-Keramikbeschichtungen im eigenen Haus aufzubringen. Wir bieten auch Beschichtungsdienste für vom Kunden bereitgestellte Teile an und gewährleisten so die Flexibilität, unterschiedlichen Anforderungen gerecht zu werden.
Unsere Siliziumkarbid-Beschichtungsprodukte werden häufig in der Si-Epitaxie, SiC-Epitaxie, MOCVD-System, RTP/RTA-Prozess, Ätzprozess, ICP/PSS-Ätzprozess und Prozess verschiedener LED-Typen, einschließlich blauer und grüner LED, UV-LED und tiefem UV, eingesetzt LED usw., die an Geräte von LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI usw. angepasst sind.
Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung | |
Eigentum | Typischer Wert |
Kristallstruktur | Polykristalline FCC-β-Phase, hauptsächlich (111)-orientiert |
Dichte | 3,21 g/cm³ |
Härte | 2500 Vickers-Härte (500 g Belastung) |
Körnung | 2~10μm |
Chemische Reinheit | 99,99995 % |
Wärmekapazität | 640 J·kg-1·K-1 |
Sublimationstemperatur | 2700℃ |
Biegefestigkeit | 415 MPa RT 4-Punkt |
Elastizitätsmodul | 430 Gpa 4pt Biegung, 1300℃ |
Wärmeleitfähigkeit | 300W·m-1·K-1 |
Wärmeausdehnung (CTE) | 4,5×10-6K-1 |
Vetek Semiconductor ist professionell in der Herstellung von CVD-SiC-Beschichtungen und TaC-Beschichtungen auf Graphit- und Siliziumkarbidmaterialien. Wir bieten OEM- und ODM-Produkte wie SiC-beschichtete Sockel, Wafer-Träger, Wafer-Chuck, Wafer-Trägertabletts, Planetenscheiben usw. an. Mit Reinraum- und Reinigungsgeräten der Güteklasse 1000 können wir Ihnen Produkte mit Verunreinigungen unter 5 ppm liefern. Wir freuen uns auf Ihre Nachricht bald von Dir.
WeiterlesenAnfrage absendenVetek Semiconductor zeichnet sich durch die enge Zusammenarbeit mit Kunden aus, um maßgeschneiderte Designs für SiC-Beschichtungs-Einlassringe zu erstellen, die auf spezifische Anforderungen zugeschnitten sind. Diese Einlassringe mit SiC-Beschichtung werden sorgfältig für verschiedene Anwendungen wie CVD-SiC-Geräte und Siliziumkarbid-Epitaxie entwickelt. Für maßgeschneiderte Einlassringlösungen mit SiC-Beschichtung wenden Sie sich bitte an Vetek Semiconductor, um individuelle Unterstützung zu erhalten.
WeiterlesenAnfrage absendenVeTek Semiconductor ist ein professioneller chinesischer Hersteller und Lieferant, der hauptsächlich SiC-beschichtete Stützringe, CVD-Siliziumkarbid (SiC)-Beschichtungen, Tantalkarbid (TaC)-Beschichtungen, SiC-Massen, SiC-Pulver und hochreine SiC-Materialien herstellt. Wir sind bestrebt, perfekten technischen Support und ultimative Produktlösungen für die Halbleiterindustrie zu bieten. Nehmen Sie gerne Kontakt mit uns auf.
WeiterlesenAnfrage absendenDie Wafer-Chucks von Vetek Semiconductor spielen eine zentrale Rolle in der Halbleiterproduktion und ermöglichen eine schnelle und qualitativ hochwertige Produktion. Mit eigener Fertigung, wettbewerbsfähigen Preisen und robuster F&E-Unterstützung zeichnet sich Vetek Semiconductor durch OEM/ODM-Dienstleistungen für Präzisionskomponenten aus. Wir freuen uns auf Ihre Anfrage.
WeiterlesenAnfrage absendenALD-Prozess bedeutet Atomic Layer Epitaxy-Prozess. Vetek Semiconductor und ALD-Systemhersteller haben SiC-beschichtete ALD-Planetensuszeptoren entwickelt und produziert, die die hohen Anforderungen des ALD-Prozesses erfüllen, um den Luftstrom gleichmäßig über das Substrat zu verteilen. Gleichzeitig sorgt die hochreine CVD-SiC-Beschichtung von Vetek Semiconductor für Reinheit im Prozess. Willkommen, um die Zusammenarbeit mit uns zu besprechen.
WeiterlesenAnfrage absendenVetek Semiconductor konzentriert sich auf die Forschung und Entwicklung sowie die Industrialisierung von CVD-SiC-Beschichtungen und CVD-TaC-Beschichtungen. Am Beispiel des SiC-Beschichtungssuszeptors wird das Produkt mit hoher Präzision, dichter CVD-SIC-Beschichtung, hoher Temperaturbeständigkeit und starker Korrosionsbeständigkeit hochverarbeitet. Eine Anfrage an uns ist willkommen.
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