- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
China Tantalcarbid-Beschichtung Hersteller, Lieferant, Fabrik
VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller von Tantalcarbid-Beschichtungsmaterialien für die Halbleiterindustrie. Zu unserem Hauptproduktangebot gehören CVD-Tantalcarbid-Beschichtungsteile, gesinterte TaC-Beschichtungsteile für das SiC-Kristallwachstum oder den Halbleiterepitaxieprozess. VeTek Semiconductor hat ISO9001 bestanden und verfügt über eine gute Qualitätskontrolle. VeTek Semiconductor ist bestrebt, durch kontinuierliche Forschung und Entwicklung iterativer Technologien zum Innovator in der Tantalcarbid-Beschichtungsindustrie zu werden.
Die Hauptprodukte sindTantalcarbid-beschichteter Deflektorring, TaC-beschichteter Umlenkring, TaC-beschichtete Halbmondteile, Tantalcarbid-beschichtete Planetenrotationsscheibe (Aixtron G10), TaC-beschichteter Tiegel; TaC-beschichtete Ringe; TaC-beschichteter poröser Graphit; Graphitsuszeptor mit Tantalkarbidbeschichtung; TaC-beschichteter Führungsring; TaC-Tantalcarbid-beschichtete Platte; TaC-beschichteter Wafer-Suszeptor; TaC-Beschichtungsring; TaC-Beschichtung Graphitabdeckung; TaC-beschichteter Brockenusw., die Reinheit liegt unter 5 ppm, kann die Kundenanforderungen erfüllen.
TaC-Beschichtungsgraphit wird hergestellt, indem die Oberfläche eines hochreinen Graphitsubstrats mit einer feinen Schicht Tantalkarbid durch ein proprietäres CVD-Verfahren (Chemical Vapour Deposition) beschichtet wird. Der Vorteil ist im folgenden Bild dargestellt:
Die Tantalcarbid (TaC)-Beschichtung hat aufgrund ihres hohen Schmelzpunkts von bis zu 3880 °C, ihrer hervorragenden mechanischen Festigkeit, Härte und Beständigkeit gegen Thermoschocks Aufmerksamkeit erregt, was sie zu einer attraktiven Alternative zu Epitaxieprozessen für Verbindungshalbleiter mit höheren Temperaturanforderungen macht. wie das Aixtron MOCVD-System und der LPE-SiC-Epitaxieprozess. Es findet auch eine breite Anwendung im SiC-Kristallwachstumsprozess mit der PVT-Methode.
Hauptmerkmale:
●Temperaturstabilität
●Ultrahohe Reinheit
●Beständigkeit gegen H2, NH3, SiH4, Si
●Beständigkeit gegen thermische Bestände
●Starke Haftung auf Graphit
●Schutzbeschichtung
● Größe bis 750 mm Durchmesser (Der einzige Hersteller in China erreicht diese Größe)
Anwendungen:
● Induktiver Heizsuszeptor
● Widerstandsheizelement
● Hitzeschild
Tantalcarbid (TaC)-Beschichtung auf einem mikroskopischen Querschnitt:
Parameter der VeTek Semiconductor Tantalcarbid-Beschichtung:
| Physikalische Eigenschaften der TaC-Beschichtung | |
| Dichte | 14,3 (g/cm³) |
| Spezifischer Emissionsgrad | 0.3 |
| Wärmeausdehnungskoeffizient | 6,3 10-6/K |
| Härte (HK) | 2000 HK |
| Widerstand | 1×10-5Ohm*cm |
| Thermische Stabilität | <2500℃ |
| Graphitgrößenänderungen | -10~-20um |
| Beschichtungsdicke | ≥20um typischer Wert (35um±10um) |
TaC-Beschichtung EDX-Daten：
Kristallstrukturdaten der TaC-Beschichtung:
| Element | Atomprozent | |||
| Pt. 1 | Pt. 2 | Pt. 3 | Durchschnitt | |
| C K | 52.10 | 57.41 | 52.37 | 53.96 |
| Ihnen | 47.90 | 42.59 | 47.63 | 46.04 |
- View as
Mit Tantalkarbid beschichteter Ring
Als professioneller Innovator und Marktführer für Produkte mit Tantalkarbid-beschichteten Ringen in China spielt der Halbleiter-Tantalkarbid-beschichtete Ring von VeTek mit seiner hervorragenden Hochtemperaturbeständigkeit, Verschleißfestigkeit und hervorragenden Wärmeleitfähigkeit eine unersetzliche Rolle beim Wachstum von SiC-Kristallen. Begrüßen Sie Ihre weitere Beratung.
WeiterlesenAnfrage absenden
Poröses Tantalcarbid
VeTek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller und Marktführer für Produkte aus porösem Tantalcarbid in China. Poröses Tantalkarbid wird normalerweise durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD) hergestellt, um eine präzise Kontrolle seiner Porengröße und -verteilung zu gewährleisten, und ist ein Materialwerkzeug für extreme Umgebungen mit hohen Temperaturen. Begrüßen Sie Ihre weitere Beratung.
WeiterlesenAnfrage absenden
Tantal-Karbid-Ring
Als fortschrittlicher Hersteller und Produzent von Tantalcarbid-Ringprodukten in China weist der Tantalcarbidring von VeTek Semiconductor eine extrem hohe Härte, Verschleißfestigkeit, hohe Temperaturbeständigkeit und chemische Stabilität auf und wird häufig in der Halbleiterfertigung eingesetzt. Insbesondere bei CVD, PVD, Ionenimplantationsprozessen, Ätzprozessen sowie der Waferverarbeitung und dem Wafertransport ist es ein unverzichtbares Produkt für die Halbleiterverarbeitung und -herstellung. Wir freuen uns auf Ihre weitere Beratung.
WeiterlesenAnfrage absenden
Tantalcarbid-Beschichtungsunterstützung
Als professioneller Hersteller und Hersteller von Tantalcarbid-Beschichtungsunterstützungsprodukten in China wird VeTek Semiconductor Tantalum Carbide Coating Support normalerweise für die Oberflächenbeschichtung von Strukturkomponenten oder Stützkomponenten in Halbleitergeräten verwendet, insbesondere für den Oberflächenschutz wichtiger Gerätekomponenten in Halbleiterherstellungsprozessen wie z CVD und PVD. Begrüßen Sie Ihre weitere Beratung.
WeiterlesenAnfrage absenden
Führungsring aus Tantalkarbid
VeTek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller und Marktführer für Tantalcarbid-Führungsringprodukte in China. Unser Führungsring aus Tantalkarbid (TaC) ist eine Hochleistungsringkomponente aus Tantalkarbid, die häufig in Halbleiterverarbeitungsanlagen verwendet wird, insbesondere in Hochtemperatur- und stark korrosiven Umgebungen wie CVD, PVD, Ätzen und Diffusion. VeTek Semiconductor engagiert sich für die Bereitstellung fortschrittlicher Technologie- und Produktlösungen für die Halbleiterindustrie und freut sich über Ihre weiteren Anfragen.
WeiterlesenAnfrage absenden
Rotationssuszeptor mit TaC-Beschichtung
Als professioneller Hersteller, Innovator und Marktführer von TaC Coating Rotation Susceptor-Produkten in China. Der TaC-Beschichtungsrotationssuszeptor von VeTek Semiconductor wird normalerweise in Anlagen zur chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und Molekularstrahlepitaxie (MBE) installiert, um Wafer zu stützen und zu drehen, um eine gleichmäßige Materialabscheidung und eine effiziente Reaktion sicherzustellen. Es ist eine Schlüsselkomponente in der Halbleiterverarbeitung. Begrüßen Sie Ihre weitere Beratung.
WeiterlesenAnfrage absenden
Als professioneller Tantalcarbid-Beschichtung Hersteller und Lieferant in China verfügen wir über eine eigene Fabrik. Egal, ob Sie maßgeschneiderte Dienstleistungen benötigen, um den spezifischen Anforderungen Ihrer Region gerecht zu werden, oder fortschrittliche und langlebige Produkte aus China kaufen möchten, Sie können uns eine Nachricht hinterlassen.
