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China Tantalcarbid-Beschichtung Hersteller, Lieferant, Fabrik
VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller von Tantalcarbid-Beschichtungsmaterialien für die Halbleiterindustrie. Zu unserem Hauptproduktangebot gehören CVD-Tantalcarbid-Beschichtungsteile, gesinterte TaC-Beschichtungsteile für das SiC-Kristallwachstum oder den Halbleiterepitaxieprozess. VeTek Semiconductor hat ISO9001 bestanden und verfügt über eine gute Qualitätskontrolle. VeTek Semiconductor ist bestrebt, durch kontinuierliche Forschung und Entwicklung iterativer Technologien zum Innovator in der Tantalcarbid-Beschichtungsindustrie zu werden.
Die Hauptprodukte sindTantalcarbid-beschichteter Deflektorring, TaC-beschichteter Umlenkring, TaC-beschichtete Halbmondteile, Tantalcarbid-beschichtete Planetenrotationsscheibe (Aixtron G10), TaC-beschichteter Tiegel; TaC-beschichtete Ringe; TaC-beschichteter poröser Graphit; Graphitsuszeptor mit Tantalkarbidbeschichtung; TaC-beschichteter Führungsring; TaC-Tantalcarbid-beschichtete Platte; TaC-beschichteter Wafer-Suszeptor; TaC-Beschichtungsring; TaC-Beschichtung Graphitabdeckung; TaC-beschichteter Brockenusw., die Reinheit liegt unter 5 ppm, kann die Kundenanforderungen erfüllen.
TaC-Beschichtungsgraphit wird hergestellt, indem die Oberfläche eines hochreinen Graphitsubstrats mit einer feinen Schicht Tantalkarbid durch ein proprietäres CVD-Verfahren (Chemical Vapour Deposition) beschichtet wird. Der Vorteil ist im folgenden Bild dargestellt:
Die Tantalcarbid (TaC)-Beschichtung hat aufgrund ihres hohen Schmelzpunkts von bis zu 3880 °C, ihrer hervorragenden mechanischen Festigkeit, Härte und Beständigkeit gegen Thermoschocks Aufmerksamkeit erregt, was sie zu einer attraktiven Alternative zu Epitaxieprozessen für Verbindungshalbleiter mit höheren Temperaturanforderungen macht. wie das Aixtron MOCVD-System und der LPE-SiC-Epitaxieprozess. Es findet auch eine breite Anwendung im SiC-Kristallwachstumsprozess mit der PVT-Methode.
Hauptmerkmale:
●Temperaturstabilität
●Ultrahohe Reinheit
●Beständigkeit gegen H2, NH3, SiH4, Si
●Beständigkeit gegen thermische Bestände
●Starke Haftung auf Graphit
●Schutzbeschichtung
● Größe bis 750 mm Durchmesser (Der einzige Hersteller in China erreicht diese Größe)
Anwendungen:
● Induktiver Heizsuszeptor
● Widerstandsheizelement
● Hitzeschild
Tantalcarbid (TaC)-Beschichtung auf einem mikroskopischen Querschnitt:
Parameter der VeTek Semiconductor Tantalcarbid-Beschichtung:
| Physikalische Eigenschaften der TaC-Beschichtung | |
| Dichte | 14,3 (g/cm³) |
| Spezifischer Emissionsgrad | 0.3 |
| Wärmeausdehnungskoeffizient | 6,3 10-6/K |
| Härte (HK) | 2000 HK |
| Widerstand | 1×10-5Ohm*cm |
| Thermische Stabilität | <2500℃ |
| Graphitgrößenänderungen | -10~-20um |
| Beschichtungsdicke | ≥20um typischer Wert (35um±10um) |
TaC-Beschichtung EDX-Daten：
Kristallstrukturdaten der TaC-Beschichtung:
| Element | Atomprozent | |||
| Pt. 1 | Pt. 2 | Pt. 3 | Durchschnitt | |
| C K | 52.10 | 57.41 | 52.37 | 53.96 |
| Ihnen | 47.90 | 42.59 | 47.63 | 46.04 |
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Rotationsplatte mit TaC-Beschichtung
Die TaC-Beschichtungs-Rotationsplatte von VeTek Semiconductor verfügt über eine hervorragende TaC-Beschichtung. Mit ihrer außergewöhnlichen TaC-Beschichtung verfügt die TaC-Beschichtungs-Rotationsplatte über eine bemerkenswerte Hochtemperaturbeständigkeit und chemische Inertheit, die sie von herkömmlichen Lösungen unterscheidet. Wir sind bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten Preise und freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu sein.
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TaC-Beschichtungsplatte
Die TaC-Beschichtungsplatte von VeTek Semiconductor ist ein bemerkenswertes Produkt, das außergewöhnliche Funktionen und Vorteile bietet. Unsere mit Präzision entworfene und perfekt konstruierte TaC-Beschichtungsplatte ist speziell auf verschiedene Anwendungen in Siliziumkarbid (SiC)-Einkristallwachstumsprozessen zugeschnitten. Die präzisen Abmessungen und die robuste Konstruktion der TaC-Beschichtungsplatte erleichtern die Integration in bestehende Systeme und gewährleisten nahtlose Kompatibilität und effizienten Betrieb. Seine zuverlässige Leistung und hochwertige Beschichtung tragen zu konsistenten und gleichmäßigen Ergebnissen bei SiC-Kristallwachstumsanwendungen bei. Wir sind bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten und freuen uns darauf, Ihr langfristiger ......
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CVD-TaC-Beschichtungsabdeckung
Die von VeTek Semiconductor bereitgestellte CVD-TaC-Beschichtungsabdeckung ist eine hochspezialisierte Komponente, die speziell für anspruchsvolle Anwendungen entwickelt wurde. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen und seiner außergewöhnlichen Leistung bietet unsere CVD-TaC-Beschichtungsabdeckung mehrere entscheidende Vorteile. Unsere CVD-TaC-Beschichtungsabdeckung bietet den notwendigen Schutz und die Leistung, die für den Erfolg erforderlich sind. Wir freuen uns darauf, eine mögliche Zusammenarbeit mit Ihnen auszuloten!
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Planetensuszeptor mit TaC-Beschichtung
Der TaC Coating Planetary Susceptor von VeTek Semiconductor ist ein außergewöhnliches Produkt für die Epitaxieausrüstung von Aixtron. Die robuste TaC-Beschichtung bietet eine hervorragende Hochtemperaturbeständigkeit und chemische Inertheit. Diese einzigartige Kombination gewährleistet zuverlässige Leistung und lange Lebensdauer, selbst in anspruchsvollen Umgebungen. VeTek ist bestrebt, qualitativ hochwertige Produkte anzubieten und als langfristiger Partner auf dem chinesischen Markt zu wettbewerbsfähigen Preisen zu fungieren.
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Sockelstützplatte mit TaC-Beschichtung
Die Sockelstützplatte mit TaC-Beschichtung von VeTek Semiconductor ist ein hochpräzises Produkt, das speziell für die spezifischen Anforderungen von Halbleiterepitaxieprozessen entwickelt wurde. Mit seiner TaC-Beschichtung, Hochtemperaturbeständigkeit und chemischen Inertheit ermöglicht Ihnen unser Produkt die Herstellung hochwertiger EPI-Schichten mit hoher Qualität. Wir sind bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten und freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu sein.
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TaC-Beschichtungsfutter
Das TaC-Beschichtungsfutter von VeTek Semiconductor verfügt über eine hochwertige TaC-Beschichtung, die für ihre hervorragende Hochtemperaturbeständigkeit und chemische Inertheit bekannt ist, insbesondere bei Siliziumkarbid (SiC)-Epitaxieprozessen (EPI). Mit seinen außergewöhnlichen Eigenschaften und seiner überlegenen Leistung bietet unser TaC-Beschichtungsfutter mehrere entscheidende Vorteile. Wir sind bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten und freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu sein.
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Als professioneller Tantalcarbid-Beschichtung Hersteller und Lieferant in China verfügen wir über eine eigene Fabrik. Egal, ob Sie maßgeschneiderte Dienstleistungen benötigen, um den spezifischen Anforderungen Ihrer Region gerecht zu werden, oder fortschrittliche und langlebige Produkte aus China kaufen möchten, Sie können uns eine Nachricht hinterlassen.
